檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "楊振雄".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="無光罩微影"
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曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一,近年來製程中對精密度要求不斷提高,並要求更高解析度更小的線寬,使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
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傳統的印刷電路板(printed circuit board, PCB)微影製程中,主要以具有光罩的鄰近式(proximity)或接觸式(contact)的曝光方式在光阻上進行曝光製程。然而,製作光…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩,而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案,對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統,能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處,不過掃描過程中存在像場變…